4月11日,復旦大學微電子學院教授張衛、周鵬團隊成員劉春森在實驗室內對硅片進行切割。 新華社記者丁汀 攝 圖片來源:新華網 為了研發出兩種性能可兼得的新型電荷存儲技術,該團隊創新性地選擇了多重二維半導體材料,堆疊構成了半浮柵結構晶體管:二氧化鉬和二硒化鎢像是一道隨手可關的門,電子易進難出,用于控制電荷輸送;氮化硼作為絕緣層,像是一面密不透風的墻,使得電子難以進出;而二硫化鉿作為存儲層,用以保存數據。周鵬說,只要調節“門”和“墻”的比例,就可以實現對“寫入速度”和“非易失性”的調控。 此次研發的第三代電荷存儲技術,寫入速度比目前U盤快1萬倍,數據刷新時間是內存技術的156倍,并且擁有卓越的調控性,可以實現按需“裁剪”數據10秒至10年的保存周期。這種全新特性不僅可以極大降低高速內存的存儲功耗,同時還可以實現數據有效期截止后自然消失,在特殊應用場景解決了保密性和傳輸的矛盾。 |
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